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安集科技取得发明专利授权:“一种去除光刻胶残留物的清洗液”

来源:米乐网址    发布时间:2025-03-06 16:12:47

产品详情

  证券之星音讯,依据天眼查APP多个方面数据显现安集科技(688019)新取得一项发明专利授权,专利名为“一种去除光刻胶残留物的清洗液”,专利请求号为CN4.7,授权日为2025年3月4日。

  专利摘要:本发明供给一种去除光刻胶残留物的清洗液,包括:季胺氢氧化物、醇胺、水、消泡剂、以及有机溶剂。本请求的清洗液参加消泡剂后既可以高效去除晶圆上的光刻胶残留物,也可以对铜、铝等金属根本无腐蚀,并且根本不会起泡,又能延伸清洗液的惯例运用的寿数。在半导体晶片清洗等范畴具有十分杰出的使用远景。

  今年以来安集科技新取得专利授权1个。结合公司2024年中报财务数据,2024上半年公司在研制方面投入了1.45亿元,同比增42.72%。

  为证券之星据揭露信息收拾,由智能算法生成(网信算备240019号),不构成出资害处。


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